电镀金属Ga和Ga合金的溶液配方

配方简介

电镀金属Ga和Ga合金的溶液配方具有良好的覆盖能力和分散能力,使用寿命长制备的Ga薄膜光亮、均匀、无缺陷,金属薄膜的厚度和成分可通2电合全液29过控制沉积条件任意改变,适合于制备 Cuingase2、GaN、GaAs等相关的半导体薄膜;且制作方法简单实用、设备投资小、成本低,适合于大规模产业化应用。

应用领域

本配方主要应用于电镀金属Ga和Ga合金。

配方详情

原料配比(质量份)

  • 三氯化镓:0.1
  • 三氯化铟:0.08
  • 丙磺酸:2.2
  • 氯化铜:0.08
  • 氢氧化锂:1.8
  • 酒石酸钠:0.2
  • 甲基碱酸:2.2
  • 氨基磺酸:2
  • 葡萄糖:8g
  • 柠檬酸钠:30g
  • 葡萄耱酸钠:15g
  • 三乙醇胺:0.2~3.8g
  • 水:加至1L

制作方法

  1. 将金属盐、络合剂和有机酸分别溶解在水中配制成饱和浓度的溶液备用;
  2. 在水中依次加入金属盐溶液、有机酸溶液、络合剂溶液和有机添加剂并搅拌均匀;
  3. 用碱性溶液调节pH值

注意事项

本配方各组分物质的量(mol)配比范围为:金属盐0.05~0.5,导电盐1~4,络合剂0.1~0.8,有机酸0.5有机添加剂4~20,水加至1L。